அனலிட்டிகல் கெமிஸ்ட்ரி: ஒரு இந்தியன் ஜர்னல்
ISSN (PRINT): 0974-7419

சுருக்கம்

XRD, SEM and Low temperature electrical transport in a metallic multilayer

P.J.Sadashivaiah, T.Sujatha, T.Sankarappa


Amultilayer, [Ni(100nm)/Fe(100nm)]3has been investigated for the structure and low temperature resistivity. The resistivity increased with increase in temperature. The residual resistivity ratio (RRR) and the temperature coefficient of resistivity (TCR) were determined. The power law variations of resistivity with temperature were established. The contributions to resistivity for T above 80K are attributed to be predominant by electron-phonon and electron-magnon scatterings and for below 30K they are ascribed to be predominant by electron-electron and electron-defect scattering.


மறுப்பு: இந்த சுருக்கமானது செயற்கை நுண்ணறிவு கருவிகளைப் பயன்படுத்தி மொழிபெயர்க்கப்பட்டது மற்றும் இன்னும் மதிப்பாய்வு செய்யப்படவில்லை அல்லது சரிபார்க்கப்படவில்லை

குறியிடப்பட்டது

  • CASS
  • கூகுள் ஸ்காலர்
  • ஜே கேட் திறக்கவும்
  • சீனாவின் தேசிய அறிவு உள்கட்டமைப்பு (CNKI)
  • CiteFactor
  • காஸ்மோஸ் IF
  • எலக்ட்ரானிக் ஜர்னல்ஸ் லைப்ரரி
  • டைரக்டரி ஆஃப் ரிசர்ச் ஜர்னல் இன்டெக்சிங் (DRJI)
  • ரகசிய தேடுபொறி ஆய்வகங்கள்
  • ICMJE

மேலும் பார்க்க

ஜர்னல் ISSN

ஜர்னல் எச்-இண்டெக்ஸ்

Flyer

அணுகல் இதழ்களைத் திறக்கவும்