சுருக்கம்
Study of Ti(C,N) coatings deposited by magnetron sputtering
N.Saoula, A.Z.Ait Djafer
In thiswork, Ti(C,N) coating have been deposited byRF reactivemagnetron sputtering (13.56MHz).WeÂ’ve been studied the effect of the nitrogen partial pressure and the substrate bias voltage on the properties of titanium carbonitride coatings prepared by RF reactive magnetron sputtering. The deposited coatings were characterized by atomic force microscopy (AFM) and micro-indentation.
மறுப்பு: இந்த சுருக்கமானது செயற்கை நுண்ணறிவு கருவிகளைப் பயன்படுத்தி மொழிபெயர்க்கப்பட்டது மற்றும் இன்னும் மதிப்பாய்வு செய்யப்படவில்லை அல்லது சரிபார்க்கப்படவில்லை